621.38 Г 524 Глазков, Илья Михайлович. Генераторы изображений в производстве интегральных микросхем [Текст] / Ред.Э.И.Точицкий. - Минск : Наука и техника, 1981. - 144с. - Библиогр.:с.142-143 (39назв.). - 85 р.
Кл.слова (ненормированные): Микроэлектронные схемы интегральные.производство -- Фотолитография Доп.точки доступа: Райхман, Яков Аранович Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
621.38 В 15 Валиев, Камиль Ахметович. Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике / Камиль Ахметович Валиев, Александр Васильевич Раков. - М. : Радио и связь, 1984. - 350с. : ил. - Библиогр.:с.338-347. - 2.80 р.
Рубрики: Фотолитография Микроэлектронные схемы интегральные-Производство Кл.слова (ненормированные): Микроэлектронные схемы интегральные.производство -- Литография субмикронная -- Фотолитография Доп.точки доступа: Раков, Александр Васильевич Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
621.38 Б 48 Березин, Геннадий Николаевич. Оптические основы контактной фотолитографии [Текст] / Геннадий Николаевич Березин, А. В. Никитин, Р. А. Сурис. - М. : Радио и связь, 1982. - 103с. : ил. - (Массовая б-ка инженера"Электроника". Вып.33). - Библиогр.:с.98-101. - 30 р.
Рубрики: Фотолитография Кл.слова (ненормированные): Фотолитография Доп.точки доступа: Никитин, А. В.; Сурис, Р. А. Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
621.38 П 73 Пресс, Феликс Павлович. Фотолитография в производстве полупроводниковых приборов [Текст] / Феликс Павлович Пресс. - М. : Энергия, 1968. - 200с. : ил. - Библиогр.:с.191-199. - 79 р.
Кл.слова (ненормированные): Полупроводниковые приборы.производство -- Фотолитография Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
621.38 П73 Пресс, Феликс Павлович. Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем [Текст] / Феликс Павлович Пресс. - М. : Сов.радио, 1978. - 96с. : ил. - (Массовая б-ка инженера"Электроника". 18). - Список лит.:с.92-95. - 30 р.
Рубрики: Фотолитография,Полупроводниковые приборы-Производство,Микроэлектронные схемы интегральные-Производство Кл.слова (ненормированные): Микроэлектронные схемы интегральные.производство -- Фотолитография -- Полупроводниковые приборы.производство Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
621.38 Г 52 Глазков, Илья Михайлович. Оборудование для производства фотошаблонов и выполнения операций фотолитографии [Текст] / Илья Михайлович Глазков. - М. : Сов.радио, 1975. - 73с. : ил. - (Массовая б-ка инженера"Электроника"). - Библиогр.:с.69-72. - 21 р.
Кл.слова (ненормированные): Микроэлектронные схемы.производство -- Фотолитография -- Фотошаблоны.производство Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
621.38 Ф 81 Фотолитография и оптика [Текст] / Под ред.Я.А.Федотова,Г.Поля. - Берлин : Техника, 1974. - 392с. : ил. - Библиогр.в конце глав. - 1.57 р.
Кл.слова (ненормированные): Полупроводниковые приборы.производство -- Фотолитография Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
77 В 240 Введение в фотолитографию / ред. В. П. Лаврищева. - Москва : Энергия, 1977. - 400 с. - Библиогр.: с. 379-397. - 1.47 р.
Рубрики: Техника фотографии Кл.слова (ненормированные): ФОТОЛИТОГРАФИЯ Доп.точки доступа: Лаврищева, В. П. \ред.\ Экземпляры всего: 1 Х (1) Свободны: Х (1) |
56066 Юрчук, С. Ю. Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами [Электронный ресурс] : курс лекций / Юрчук С. Ю. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2013. - 45 с. - ISBN 978-5-87623-662-3 : Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Кл.слова (ненормированные): математическое моделирование -- субмикронная структура -- фотолитография -- электронная литография Аннотация: Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника». Перейти: Перейти к просмотру издания Свободных экз. нет |
68508 Кручинин, Д. Ю. Фотолитографические технологии в производстве оптических деталей [Электронный ресурс] : учебное пособие / Кручинин Д. Ю. - Екатеринбург : Уральский федеральный университет, ЭБС АСВ, 2014. - 52 с. - ISBN 978-5-7996-1110-1 : Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Кл.слова (ненормированные): зеркальное покрытие -- маскирующее покрытие -- оптическая деталь -- оптическая шкала -- производство детали -- фотолитографическая технология -- фотолитографическое оборудование -- фотолитография -- фоторезист -- фотошаблон Аннотация: Изложены основы фотолитографии, виды и способы изготовления оптических шкал. Рассмотрены оптические детали, требующие формирования топологии на поверхности. Пособие предназначено для студентов, обучающихся по направлению «Оптотехника», аспирантов и научных сотрудников, интересующихся фотолитографическими технологиями. Перейти: Перейти к просмотру издания Доп.точки доступа: Фарафонтова, Е. П. Свободных экз. нет |