Главная Упрощенный режим

Базы данных


Основная библиотечная БД - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
 Найдено в других БД:Журналы (1)
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.
   1568673
   


    Шрамченко, Ю. С.
    Синтез и свойства тонкопленочных гетероструктур на основе ниобия, олова, индия : автореферат дис. ... канд. хим. наук : 02.00.21 / Ю. С. Шрамченко ; Воронеж. гос. ун-т. - Воронеж, 2009. - 17 с.
Кл.слова (ненормированные):
ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ ГЕТЕРОСТРУКТУРЫ (ИССЛЕДОВАНИЯ) -- СИСТЕМЫ НА ОСНОВЕ НИОБИЯ (СИНТЕЗ) -- ДВУХСЛОЙНЫЕ ПЛЕНОЧНЫЕ ГЕТЕРОСТРУКТУРЫ -- МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ ОЛОВО-НИОБИЙ -- МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ ИНДИЙ-НИОБИЙ -- ПЛЕНКИ СЛОЖНЫХ ОКСИДОВ  -- ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА (ИЗУЧЕНИЕ) -- ГЕТЕРОФАЗНЫЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ -- ЭЛЕКТОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- РЕНТГЕНОВСКАЯ ДИФРАКЦИЯ

Экземпляры всего: 1
Х (1)
Свободны: Х (1)
Найти похожие
2.
31877

    Берлин, Б. В.
    Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением [Текст] / Берлин Б. В. - Москва : Техносфера, 2014. - 256 с. - ISBN 978-5-94836-369-1 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
УДК
ББК 34.65

Кл.слова (ненормированные):
магнетронное распыление -- нанесение покрытия -- реактивное распыление -- тонкая пленка
Аннотация: Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Перейти: Перейти к просмотру издания

Доп.точки доступа:
Сейдман, Л. А.
Свободных экз. нет
Найти похожие
 
Статистика
за 05.07.2024
Число запросов 37983
Число посетителей 430
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)