Главная Упрощенный режим

Базы данных


Основная библиотечная БД - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
 Найдено в других БД:Труды учёных ПГНИУ (3)
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ<.>)
Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3
1.
   669
   Х 464


   
    Химическое осаждение металлов из водных растворов [] / Т. Н. Воробьева, Т. В. Гаевская, Л. И. Степанова ; ред. В. В. Свиридов. - Минск : Изд-во Университетское , 1987. - 270 с. - 2.90 р.
ГРНТИ
УДК
Рубрики: Металловедение
Кл.слова (ненормированные):
химическое осаждение -- осаждение металлов
Аннотация: Термодинамические и кинетические особенности реакций химического осаждения металлов. Реакции химического осаждения при получении сплавов, композиционных покрытий, порошков и коллоидов.


Доп.точки доступа:
Воробьева, Т. Н.; Гаевская, Т. В.; Степанова, Л. И.; Свиридов, В. В. \ред.\
Экземпляры всего: 1
ЧЗЕ (1)
Свободны: ЧЗЕ (1)
Найти похожие
2.
   1604561
   


    Медведева, Н. А.
    Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий : автореферат дис. ... канд. хим. наук : 05.17.03 / Н. А. Медведева ; Тамбов. гос. тех. ун-т. - Тамбов, 2011. - 21 с.
Кл.слова (ненормированные):
ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- ХИМИЧЕСКОЕ НИКЕЛИРОВАНИЕ -- АНОДНОЕ ОКИСЛЕНИЕ -- ПАРЦИАЛЬНАЯ АНОДНАЯ РЕАКЦИЯ -- ГИПОФОСФИТ НАТРИЯ -- КОРРОЗИОННО-ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА -- КОРРОЗИОННЫЕ СРЕДЫ ХЛОРИДНЫЕ -- КОРРОЗИОННЫЕ СРЕДЫ СУЛЬФАТНЫЕ -- ТОПОГРАФИЯ ПОКРЫТИЙ -- МИКРОСТРУКТУРА ПОКРЫТИЙ -- СПЕКТРЫ КОЛЕБАНИЙ

Экземпляры всего: 1
Х (1)
Свободны: Х (1)
Найти похожие
3.
32819

    Кузнецов, Ф. А.
    Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники [Текст] / Кузнецов Ф. А. - Новосибирск : Сибирское отделение РАН, 2013. - 176 с. - ISBN 978-5-7692-1272-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
УДК
ББК 24.5

Кл.слова (ненормированные):
наноэлектроника -- химическое осаждение -- химия твердого тела
Аннотация: В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийорганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании MO CVD процессов. Получены и исследованы наиболее важные для современной электроники и наноэлектроники материалы: металлические пленки (Cu, Ni, Ru, Ir), диэлектрические пленки с высоким (high-k) и низким (low-k) значением диэлектрической проницаемости. Изучены химический, фазовый состав и структура простых и сложных оксидов на основе HfO2 (high-k диэлектрики), а также карбонитридов бора, карбонитридов и оксикарбонитридов кремния (low-k диэлектрики). Книга адресуется студентам, аспирантам, инженерам и научным сотрудникам, занимающимся химией твердого тела, микроэлектроникой и технологией материалов электронной техники.

Перейти: Перейти к просмотру издания

Доп.точки доступа:
Воронков, М. Г.; Борисов, В. О.; Игуменов, И. К.; Каичев, В. В.; Кеслер, В. Г.; Кириенко, В. В.; Кичай, В. Н.; Косинова, М. Л.; Кривенцев, В. В.; Лебедев, М. С.; Лис, А. В.; Морозова, Н. Б.; Никулина, Л. Д.; Рахлин, В. И.; Румянцев, Ю. М.; Смирнова, Т. П.; Суляева, В. С.; Сысоев, С. В.; Титов, А. А.; Файнер, Н. И.; Цырендоржиева, И. П.; Чернявский, Л. И.; Яковкина, Л. В.; Смирнова, Т. П. \ред.\
Свободных экз. нет
Найти похожие
 
Статистика
за 07.08.2024
Число запросов 41096
Число посетителей 481
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)