Главная Упрощенный режим

Базы данных


Основная библиотечная БД - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
 Найдено в других БД:Труды учёных ПГНИУ (3)
Формат представления найденных документов:
полный информационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=химическое осаждение<.>)
Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3
1.

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 669/Х 464
Автор(ы) : Воробьева Т. Н., Гаевская Т. В., Степанова Л. И.
Заглавие : Химическое осаждение металлов из водных растворов
Выходные данные : Минск: Изд-во Университетское , 1987
Колич.характеристики :270 с
Цена : 2.90, 2.90, р.
ГРНТИ : 53.49
УДК : 669.053.4
Предметные рубрики: Металловедение
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): химическое осаждение--осаждение металлов
Аннотация: Термодинамические и кинетические особенности реакций химического осаждения металлов. Реакции химического осаждения при получении сплавов, композиционных покрытий, порошков и коллоидов.
Экземпляры :ЧЗЕ(1)
Свободны : ЧЗЕ(1)
Найти похожие
2.

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 1604561/
Автор(ы) : Медведева Н. А.
Заглавие : Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий : автореферат дис. ... канд. хим. наук : 05.17.03
Выходные данные : Тамбов, 2011
Колич.характеристики :21 с
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): химическое осаждение--химическое никелирование--анодное окисление--парциальная анодная реакция--гипофосфит натрия--коррозионно-электрохимические свойства--коррозионные среды хлоридные--коррозионные среды сульфатные--топография покрытий--микроструктура покрытий--спектры колебаний
Экземпляры :Х(1)
Свободны : Х(1)
Найти похожие
3.

Вид документа :
Шифр издания : 32819
Автор(ы) : Кузнецов Ф. А.
Заглавие : Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
Выходные данные : Новосибирск: Сибирское отделение РАН, 2013
Колич.характеристики :176 с
Примечания : Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
ISBN, Цена 978-5-7692-1272-7: Б.ц.
УДК : 539.2
ББК : 24.5
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): наноэлектроника--химическое осаждение--химия твердого тела
Аннотация: В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийорганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании MO CVD процессов. Получены и исследованы наиболее важные для современной электроники и наноэлектроники материалы: металлические пленки (Cu, Ni, Ru, Ir), диэлектрические пленки с высоким (high-k) и низким (low-k) значением диэлектрической проницаемости. Изучены химический, фазовый состав и структура простых и сложных оксидов на основе HfO2 (high-k диэлектрики), а также карбонитридов бора, карбонитридов и оксикарбонитридов кремния (low-k диэлектрики). Книга адресуется студентам, аспирантам, инженерам и научным сотрудникам, занимающимся химией твердого тела, микроэлектроникой и технологией материалов электронной техники.
Перейти: Перейти к просмотру издания
Найти похожие
 
Статистика
за 24.08.2024
Число запросов 19795
Число посетителей 458
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)