Главная Упрощенный режим

Базы данных


Основная библиотечная БД - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
 Найдено в других БД:Журналы (1)
Формат представления найденных документов:
полный информационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 1568673/
Автор(ы) : Шрамченко Ю. С.
Заглавие : Синтез и свойства тонкопленочных гетероструктур на основе ниобия, олова, индия : автореферат дис. ... канд. хим. наук : 02.00.21
Выходные данные : Воронеж, 2009
Колич.характеристики :17 с
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): тонкопленочные гетероструктуры (исследования)--системы на основе ниобия (синтез)--двухслойные пленочные гетероструктуры--металлические системы олово-ниобий--металлические системы индий-ниобий--пленки сложных оксидов --оптические свойства (изучение)--гетерофазные взаимодействия--электофизические свойства--магнетронное распыление--рентгеновская дифракция
Экземпляры :Х(1)
Свободны : Х(1)
Найти похожие
2.

Вид документа :
Шифр издания : 31877
Автор(ы) : Берлин Б. В.
Заглавие : Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Выходные данные : Москва: Техносфера, 2014
Колич.характеристики :256 с
Примечания : Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
ISBN, Цена 978-5-94836-369-1: Б.ц.
УДК : 621.78
ББК : 34.65
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): магнетронное распыление--нанесение покрытия--реактивное распыление--тонкая пленка
Аннотация: Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Перейти: Перейти к просмотру издания
Найти похожие
 
Статистика
за 09.07.2024
Число запросов 13258
Число посетителей 445
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)