Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 544.6/Ш 39 Автор(ы) : Шеин А. Б., Кичигин В. И. Заглавие : Кинетика роста анодных оксидных пленок на силицидах кобальта в растворах серной и фтороводородной кислот Место публикации : Вестник Пермского университета. Сер.: Химия. - 2022. - Т. 12, вып. 3 . - С. 158-169 Примечания : Библиогр.: с. 166-167 (16 назв.) ГРНТИ : 31.15.33 УДК : 544.6 ББК : 24.57 Предметные рубрики: Химия Электрохимия Географич. рубрики: Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): анодная оксидная пленка--колебания тока--силицид кобальта--фтороводородная кислота--электроды Аннотация: Изучена кинетика роста анодных оксидных слоев на силицидах кобальта Co2Si и CoSi2 в растворе 0,5 моль/л H2SO4, содержащем 0,005 или 0,01 М HF, с использованием хроноамперометрических измерений при различных потенциалах формирования оксида. Показано, что кинетика роста оксида согласуется с моделью сильного поля. Для Co2Si-электрода в 0,5 моль/л H2SO4+ 0,01 моль/лHF отклики тока на ступенчатые изменения потенциала имеют вид затухающих колебаний. Колебательные процессы объяснены с позиций теории линейных электрических цепей при учете химического взаимодействия оксидной пленки с раствором. Доп.точки доступа: Кичигин, В. И.